Experimentelle Techniken und apparative Ausstattung

 

Beugung langsamer Elektronen (LEED)

- konventionelle 4-Gitter-LEED-Optik mit Shutter und AES-Elektronik (SPECS)

- MCP-LEED mit zwei Channelplates für hochempfindliche Oberflächen (Omicron)

- SPA-LEED für Reflex-Profilanalyse (LEYBOLD)

 

Fourier-Transform-Infrarotspektroskopie (FTIRS) in Transmission, Reflexion und diffuser Reflexion

- Interferometer BRUKER IFS 120 HR (Auflösung <0.01 cm-1)

- Interferometer BRUKER IFS 66 v mit Rapid Scan und Step Scan (Auflösung 0.1 cm-1)

- verschiedene Ultrahochvakuumpumpstände für FTIR-Untersuchungen

- DRIFTS-Messzelle für Untersuchungen im Druckbereich <1 bis >10 bar und Temperaturen <900°C

 

Gaschromatograhie, gekoppelt mit Massenspektroskopie (GC-MS)

- GC-MS für Untersuchungen von Gasmischungen in katalysierten Reaktionen (AGILENT Technologies)

 

Helium-Atomstrahlstreuung (HAS)

- HAS-Apparatur HELIOS für elastische und inelastische Heliumstreuung (Leihgabe des MPI für Strömungsforschung, Göttingen)

 

Röntgen- und Ultraviolett-Photoelektronenspektroskopie (XPS, UPS)

- Elektronen-Energieanalysator mit 9 Channeltrons in Mehrkammer-Ultrahochvakuumanlage (PHOIBOS 150, SPECS)

- Röntgenquelle mit Mg/Al-Doppelanode (XR 50, SPECS)

- monochromatische Röntgenquelle mit Al/Ag-Doppelanode (FOCUS 500, SPECS)

- UV-Quelle für He I- und He II-Strahlung (UVS 10/35, SPECS)

 

Raster-Kraft- und Raster-Tunnel-Mikroskopie (AFM, STM)

- kombiniertes UHV-Raster-Kraft- und Raster-Tunnel-Mikroskop (VT-AFM 25 RH, Omicron)

- Temperaturbereich 25 - 750 K

- atomare Auflösung im AFM-Betrieb durch Beam Deflection-Technik

 

Ultrahochvakuumtechnologie

- verschiedene Ultrahochvakuumanlagen für Untersuchungen von Isolatoren, Halbleitern und Metallen

- Kryostaten für Probentemperaturen bis herunter zu 4 K

- Spaltvorrichtungen für in situ-Präparation von Isolatoreinkristallen

- verschiedene experimentelle Techniken (s.o.)